提供GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量服務 X射線光電子能譜法

提供GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量服務 X射線光電子能 XPS

國家標準《硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法》由TC38（全國微束分析標準化技術委員會）歸口上報及執行，主管部門為國家標準化管理委員會。
主要起草單位 中國科學院化學研究所 、中國計量科學研究院 。
主要起草人 劉芬 、王海 、趙良仲 、宋小平 、趙志娟 、邱麗美 。